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光刻机专用双频激光干涉仪
可构建XY位移台等多轴测量系统
采用直接输出线偏振光、大功率、大频差双频激光器
无圆偏振光转线偏振光非线性误差
大功率可同时测量更多数量的轴向位移
大频差，测量速度更快
Information in English:
LH1000 Dual-frequency Interferometer.pdf
Nonlinear error analysis and experimental measurement of Birefringence-Zeeman dual-frequency laser interferometer.pdf
专为光刻机配套开发的高精度测量系统；
通过国家重大专项“极大规模集成电路制造技术及成套工艺”项目验收。
采用直接输出线偏振光的双频激光器；
非线性高精密测量系统，测量更精准；
可提供1~20MHz频差内任意频差产品，满足各种测量速度需要。
光源和测量信号接收单元分体式设计，方便搭建XY位移台等多轴测量系统；
精巧的测量信号光纤接收头，即使空间狭小也能方便安装；
标准光刻机干涉仪安装尺寸和数据接口，可直接替换现有产品。
（欲了解更多单频与双频干涉仪的性能特点和差异，请阅览本网站解决方案栏目中的：双频激光干涉仪）
型号 | 频差(MHz) | 最小出光功率(μW) | 光斑尺寸(mm) | 稳频精度(ppm) |
LH1000A | 1.5±0.5 | >500 | 6 | ±0.02 |
LH1000B | 2.5±0.5 | > 500 | 6 | ±0.02 |
LH1000C | 3.5±0.5 | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
LH1000D | 4.5±0.5 | >500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000DL | 5.5±0.5 | > 500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000EL | 6.5±0.5 | >500 | 6 | ±0.02 |
LH1000FL | 7.5±0.5 | >500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000GL | 8.5±0.5 | > 500 | 9 | ±0.02 |
LH1000H | 9.5±0.5 | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
LH1000I | 10.0-20.0(按需定制) | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
注：可根据需求定制更小频差范围。
恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。
LH1000双频激光干涉仪应用于尼康光刻机后，其工作台精度由原来的23nm提高到6nm！
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